I-HE - 100µ
Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist.
I-HE wurde speziell für die Anwendung „PowderBlasting“ (mikroabrasiver Materialabtrag durch Sandstrahlung) und für die Bearbeitung technischer Gläser und Keramiken entwickelt. Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. Im Gegensatz zu anderen Photoresist Materialien und Strahlfolientypen wird I-HE nicht mit alkalischen Lösungen entwickelt, sondern mit Wasser. Chemische Zusätze werden weder zur Entwicklung, noch zur Entschichtung (Stripping) benötigt.
Anwendungsgebiete von I-HE:
Mikroperforation von Dünnglas (Wafer) und technischen Keramiken
MEMS packaging
Lens packaging
Produktion von Lab on Chip - Systemen
Gravur von Identifikationsnummern und Firmenzeichen / Logos
Gezielte Oberflächenstrukturierung von Metall.
I-HE ist verfügbar in Rollen in:
75µ
100µ
Menge: Rolle
Größe: 20,96cm x 50m Rolle
Artikelnummer: ID 17564